Фоторефрактивниот ефект е основата на холографските оптички апликации, но носи проблеми и на другите оптички апликации, па затоа е посветено големо внимание на подобрувањето на фоторефрактивната отпорност на кристалот на литиум ниобат, меѓу кои регулирањето на допингот е најважниот метод.За разлика од фоторефрактивниот допинг, антифоторефрактивниот допинг користи елементи со непроменлива валентност за да го намали фоторефрактивниот центар.Во 1980 година, беше објавено дека отпорот на фоторефракција на кристалот LN допиран со висок сооднос на Mg се зголемува за повеќе од 2 реда на големина, што привлече големо внимание.Во 1990 година, истражувачите открија дека ЛН допиран со цинк има висока отпорност на фоторефракција слична на ЛН допирана со магнезиум.Неколку години подоцна, беше откриено дека LN допирани со скандиум и допирани со индиум имаат отпорност на фоторефракција.

Во 2000 година, Ксу и сор.откриле дека високосооднос Mг-допираниLNкристал со висока отпорност на фоторефракција во видлива лента хаsодлични фоторефрактивни перформанси во УВ бенд.Ова откритие проби низ разбирањето нанаотпорност на фоторефракција наLNкристал, а исто така го пополни празното од фоторефрактивните материјали применети во ултравиолетова лента.Пократката бранова должина значи дека големината на холографската решетка може да биде помала и пофина, и може динамички да се избрише и да се запише во решетката со ултравиолетова светлина, и да се чита со црвено и зелено светло, за да се реализира примената на динамичната холографска оптика. .Ламарк и сор.го усвои високиотсооднос Мг-допираниLN кристал обезбеден од Универзитетот Нанкаи како УВ фоторефракцијаматеријали реализирано програмабилно дводимензионално ласерско означување со користење на двобранско засилување на споена светлина.

Во раната фаза, анти-фоторефрактивните допинг елементи вклучуваа двовалентни и тривалентни елементи како што се магнезиум, цинк, индиум и скандиум.Во 2009 година, Конг и сор.разви анти-фоторефрактивен допинг користејќи тетрaвалентни елементи како што се хафниум, циркониум и калај.Кога се постигнува истиот отпор на фоторефракција, во споредба со двовалентни и тривалентни допирани елементи, количината на допинг на тетрадвалентни елементи е помала, на пример, 4,0 mol% хафниум и 6,0 мол% допирани со магнезиумLNкристалите имаат сimиларенотпорност на фоторефракција,2.0 mol% циркониум и 6.5 mol% магнезиум допингуванLNкристалите имаат сimиларенотпорност на фоторефракција.Притоа, коефициентот на сегрегација на хафниум, циркониум и калај во литиум ниобат е поблиску до 1, што е поповолно за подготовка на висококвалитетни кристали.

Висококвалитетен LN развиен од WISOPTIC [www.wisoptic.com]